電解拋光和化學拋光都可蝕刻和整平金屬，下麵將淺談兩者之間的區別。

電解拋光(電化學拋光)以被拋光工件為陽極，以其難溶金屬為陰極，兩個電極同時侵入電化學拋光槽。當施加直流電時，選擇性陽極溶解，陽極表麵的亮度增加。這種工藝可以改善金屬表麵的微觀幾何形狀，降低金屬表麵的微觀粗糙度，從而使零件表麵光亮。根據不同的材料，有著不同的拋光工藝和處理方法，但它們的拋光原理是一樣的。

目前國際上各界對電解原理爭論不休，普遍認為以黏膜說為主。其原理是從工件上分離出來的金屬離子與磨削液中的磷酸形成磷酸鹽膜，吸附在工件表麵。薄膜凸起部分薄，凹凸部分厚，凸起部分電流密度高，溶解快。隨著膜的流動，凹凸部分不斷變化，粗糙的表麵逐漸變平。

電解拋光常用於鋼、不鏽鋼、鋁、銅等零件或銅、鎳等塗層的裝飾性拋光，某些工具的表麵拋光，或用於製作高反光麵和金相試件。

化學拋光是在特定條件下對金屬零件進行化學蝕刻。在這個蝕刻過程中，金屬表麵被溶液蝕刻和整平，以獲得相對明亮的表麵。化學拋光可用於儀器、鋁反射鏡的表麵拋光，以及其他零件或塗層的裝飾加工。與電解拋光相比，化學拋光的優點是可以加工更複雜的零件，不需要外接電源，生產效率高。而化學拋光的表麵質量一般略低於電解拋光，溶液的調節和再生要求比較高，難度較大。